著者・共著者：須田紘也・川島基展・早川大地
フォトグラメトリにおいて必要とされる現実のライティング情報の除去を直感的に行うことができる手法を提案しました。
【学会発表】CG-ARTS 人材育成パートナー企業賞（口頭発表）”フォトグラメトリにおける3Dペイントを用いたディライティングの改善手法” (映像表現・芸術科学フォーラム2023)
Kawashima Lab @ Tokyo University of Technology, School of Media Science
著者・共著者：須田紘也・川島基展・早川大地
フォトグラメトリにおいて必要とされる現実のライティング情報の除去を直感的に行うことができる手法を提案しました。